必讀要聞一：產(chǎn)業(yè)鏈核心環(huán)節(jié)趨于成熟，工業(yè)部稱2026年產(chǎn)業(yè)總體規(guī)模將超3500億
財聯(lián)社資訊獲悉，本月19至20日舉行的世界VR產(chǎn)業(yè)大會上，華為將舉辦單獨(dú)的生態(tài)論壇，華為監(jiān)事會主席郭平將參加。
近年來，VR（虛擬現(xiàn)實(shí)）產(chǎn)業(yè)刺激性事件不斷，應(yīng)用場景需求不斷增長。先是有元宇宙概念橫空出世，后有蘋果推出自己的VR產(chǎn)品。VR市場規(guī)模逐年攀升，根據(jù)智研咨詢的數(shù)據(jù)，2022年我國VR產(chǎn)業(yè)規(guī)模達(dá)775.9億元，較2021年增長32.9%。根據(jù)2022年工信部等5部門聯(lián)合發(fā)布《虛擬現(xiàn)實(shí)與行業(yè)應(yīng)用融合發(fā)展行動計劃（2022—2026年）》，到2026年我國虛擬現(xiàn)實(shí)產(chǎn)業(yè)總體規(guī)模超過3500億元。安信證券認(rèn)為，隨著5G生態(tài)逐步成熟，XR與行業(yè)應(yīng)用的融合正在進(jìn)入爆發(fā)期。VR產(chǎn)業(yè)鏈核心環(huán)節(jié)已趨于成熟，硬件產(chǎn)品體驗(yàn)顯著改善，新一代技術(shù)將驅(qū)動生產(chǎn)力全方位提升。
必讀要聞二：重大突破！我國首次星地激光數(shù)傳試驗(yàn)成功
據(jù)央視新聞，近日，吉林省某技術(shù)公司使用自主研制的車載激光通信地面站，與“吉林一號”星座MF02A04星星載激光終端開展了星地激光高速圖像傳輸試驗(yàn)并取得成功，這是我國首個獨(dú)家、自主完成的業(yè)務(wù)化應(yīng)用星地激光高速圖像傳輸試驗(yàn)。標(biāo)志著長光衛(wèi)星已成功實(shí)現(xiàn)星地激光高速圖像傳輸全業(yè)務(wù)鏈的工程化，工程應(yīng)用能力達(dá)到國際先進(jìn)水平。
中信證券認(rèn)為，近年來衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)新技術(shù)不斷涌現(xiàn)，有源相控陣、激光通信、3D打印等技術(shù)發(fā)展或催生行業(yè)新業(yè)態(tài)。預(yù)計中國衛(wèi)星互聯(lián)網(wǎng)將迎來十年黃金發(fā)展期，帶動近萬億級的產(chǎn)業(yè)發(fā)展空間。
必讀要聞三：億航智能向深圳博領(lǐng)交付5架EH216-S自動駕駛飛行器
據(jù)億航智能官方公眾號發(fā)文表示，公司已向新客戶深圳博領(lǐng)控股集團(tuán)有限公司交付5架EH216-S自動駕駛飛行器，這是博領(lǐng)計劃向億航采購100架EH216-S的一部分。博領(lǐng)對余下95架EH216-S的采購基于EH216-S獲得中國民用航空局型號合格認(rèn)證，以及雙方就交付時間等細(xì)節(jié)達(dá)成進(jìn)一步協(xié)議。此舉創(chuàng)造了全球電動垂直起降飛行器（eVTOL）行業(yè)在適航認(rèn)證領(lǐng)域的全新高度。
首批交付的EH216-S自動駕駛飛行器將用于在深圳市寶安區(qū)歡樂港灣的億航智能首個城市空中交通（UAM）運(yùn)營示范中心的常態(tài)化飛行運(yùn)行。分析師認(rèn)為，全國地方政府加速拓展低空經(jīng)濟(jì)規(guī)劃，預(yù)計后續(xù)隨著適航證落地，eVTOL交付和商業(yè)模式拓展有望在地方政府帶動下持續(xù)加速，在地方政府引導(dǎo)下低空經(jīng)濟(jì)有望迎來全面發(fā)展。
必讀要聞四：芯片制造或迎來全新的范式！佳能納米壓印技術(shù)未來有望對應(yīng)2nm節(jié)點(diǎn)
日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，該設(shè)備執(zhí)行電路圖案轉(zhuǎn)移，這是最重要的半導(dǎo)體制造工藝。
納米壓印是將光刻膠(PR)涂在晶圓上，然后壓上印有特定圖案的印模以形成電路。因?yàn)樗皇褂苗R頭，所以可以以比現(xiàn)有曝光工藝更低的成本實(shí)現(xiàn)精細(xì)工藝。納米壓印替代的是光刻環(huán)節(jié)，只有光刻的步驟被納米壓抑技術(shù)代替，其他的刻蝕、離子注入、薄膜沉積這些標(biāo)準(zhǔn)的芯片制造工藝是完全兼容的，能很好的接入現(xiàn)有產(chǎn)業(yè)，不用推翻重來。根據(jù)相關(guān)資訊，佳能等國際廠商擬試圖通過納米壓印技術(shù)在部分集成電路領(lǐng)域替代EUV光刻設(shè)備實(shí)現(xiàn)更低成本的芯片量產(chǎn)。佳能的NIL技術(shù)使圖案的最小線寬為14nm，隨著掩模技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，NIL有望使電路圖案化的最小線寬為10nm，這對應(yīng)于2nm節(jié)點(diǎn)。市場分析指出，未來當(dāng)光學(xué)光刻真正達(dá)到極限難以向前時，納米壓印技術(shù)或?qū)⑹且粭l值得期待的路線，而那時，芯片制造或許也會迎來全新的范式，一切都會被顛覆。
2023.10.16
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