圖片來源@視覺中國

文|半導(dǎo)體行業(yè)觀察

過去十年里,三星可謂是處于世界之巔。眾所周知,三星是一家多元化的公司,在DRAM、手機(jī)SoC、代工、面板等多個領(lǐng)域都有技術(shù)和一定的產(chǎn)品優(yōu)勢。但是近幾年,早期推動三星增長的業(yè)務(wù)正在受到各種挑戰(zhàn),各種直接和間接的證據(jù)表明三星的半導(dǎo)體業(yè)務(wù)正在苦苦掙扎。三星的代工業(yè)務(wù)增長速度不及臺積電,而其節(jié)點良率也未能達(dá)到預(yù)期;1α DRAM 制造工藝落后于競爭對手幾個月;手機(jī)旗艦SoC的性能也不敵與其競爭對手。近日,三星宣布其3nm已率先進(jìn)入量產(chǎn)階段,在摩爾定律可預(yù)見的未來,3nm是可預(yù)見的“最后”或者“尚具經(jīng)濟(jì)價值”的節(jié)點。三星能否在3nm打開一個新增長窗口呢?

挑戰(zhàn)重重的三星

首先在存儲領(lǐng)域,三星仍然是存儲芯片當(dāng)之無愧的王者,但正面臨著SK海力士和美光的多路猛追。根據(jù)Strategy Analytics (SA) 的數(shù)據(jù),截至今年第一季度,按收入計算,三星在全球存儲芯片市場的份額為46%,其次是SK海力士,占24%。

DRAM是三星的搖錢樹。過去30 年,DRAM是個“大起大落”的市場,從近期來看,2019 年DRAM產(chǎn)值下滑37%,2021年卻緊接著大增42%,高度波動的周期讓DRAM主要供應(yīng)商數(shù)量,從1990年代中期的20家,銳減至今日主要的3家。去年三星、SK海力士和美光的市占率分別為43.6%、27.7%、22.8%,合計約占高達(dá)94%。其中三星DRAM去年銷售額近419 億美元;SK海力士銷售額達(dá)266 億美元,年增39%。

1994-2022年DRAM市場銷售額比較(圖源:IC insights)

五年前,三星的DRAM在密度、性能、成本結(jié)構(gòu)上要優(yōu)于美光和SK海力士。據(jù)行業(yè)媒體semianalysis報道,在1α代,三星雖然已經(jīng)量產(chǎn)了一段時間,但產(chǎn)能還未提上來,而美光已能將其所有產(chǎn)能轉(zhuǎn)移到1α代(僅使用DUV),因此在DRAM方面具有成本優(yōu)勢。SK Hynix在去年10月發(fā)布速度較原先產(chǎn)品增至2倍以上的DDR5 DRAM、搶先三星一步拿到全球首款的頭銜。MoneyDJ新聞報道中指出,據(jù)半導(dǎo)體業(yè)界關(guān)系人士指出,過去三星與對手之間還有1年左右的技術(shù)差距,不過據(jù)分析、目前該差距已縮小至0.5年以內(nèi)(6個月以內(nèi))。

其次在手機(jī)SoC領(lǐng)域,曾經(jīng)三星的Exynos芯片也是風(fēng)靡一時。但這幾年三星旗下自研的Exynos系列處理器一直飽受批評,早前更有網(wǎng)民聯(lián)署要求三星放棄在Galaxy手機(jī)上Exynos系列處理器。今年三星發(fā)布了新款旗艦芯片Exynos 2200,但據(jù)報道,三星的Exynos 2200的產(chǎn)量極低。

近期韓國網(wǎng)友@GaryeonHan在Twitter平臺暗示,三星已放棄Exynos系列芯片的研發(fā)。分析師郭明琪也稱,該公司很可能從高通公司為其下一個S系列旗艦機(jī)采購單一的處理器。"S23可能不會采用三星4nm制造的Exynos 2300,因為它在各方面都無法與SM8550競爭,"他在Twitter上寫道,這將是三星的一個重大轉(zhuǎn)變。多年來,該公司在其旗艦手機(jī)中同時使用驍龍和Exynos SoC。

手機(jī)整機(jī)方面,國內(nèi)手機(jī)品牌小米OV等這幾年發(fā)展迅速,根據(jù)IDC的數(shù)據(jù)統(tǒng)計,2021年全球智能手機(jī)出貨量達(dá)13.548億,同比增長5.7%。整體來看,三星依舊穩(wěn)居榜首,市占率20.1%,同比增長6%。但是國內(nèi)廠商的增速也較快,例如排名第三的小米市占率14.1%,同比增長29.3%;oppo和vivo的全球市占率分別為9.9%和9.5%,同比增長分別為20.1%和14.8%。

2021年全球智能手機(jī)出貨量(圖源:IDC)

面板領(lǐng)域三星也敗下陣來,據(jù)韓國顯示器產(chǎn)業(yè)協(xié)會(Korea Display Industry Association)公布的數(shù)據(jù)顯示,以營收計算,2021年中國面板廠商占據(jù)全球市場的41.5%,超越韓國面板廠的33.2%,這終結(jié)了韓國17年面板霸主地位。其中在LCD面板方面,中國LCD面板占據(jù)全球市場的50.7%,遠(yuǎn)高于韓國的14.6%,三星近年來持續(xù)流失其市場份額,其市占率已從2014年的22%縮水至2022年的2%左右,目前三星已經(jīng)全面退出LCD面板業(yè)務(wù);未來,三星將專注于發(fā)展nm量子點(Quantum Dot)OLED業(yè)務(wù),在這方面,國內(nèi)的天馬、京東方等,大舉投資擴(kuò)產(chǎn)用于智能手機(jī)和平板電腦的OLED面板,OLED面板也正在追趕。

最后在晶圓代工領(lǐng)域,三星在先進(jìn)工藝節(jié)點的技術(shù)競賽中也落后于臺積電。據(jù)TrendForce數(shù)據(jù)顯示,臺積電的晶圓代工市占為56.3%,遠(yuǎn)高于第二名16.3%的三星。并且三星最大的兩個客戶高通和英偉達(dá)已經(jīng)流向臺積電。7月13日,據(jù)分析師郭明錤發(fā)布推文稱“我的最新調(diào)查顯示,臺積電將是高通在2023年和2024年5G旗艦芯片的獨家供應(yīng)商,這對兩家公司來說,是一個超級雙贏局面。”郭明錤還表示,“高通一直是三星最重要先進(jìn)制程客戶,高通此舉代表臺積電先進(jìn)制程優(yōu)勢將顯著領(lǐng)先三星至少至2025年。”

2022年Q1全球前十大晶圓代工排名(圖源:TrendForce)

此外,SK海力士正大力開拓代工業(yè)務(wù),這也將于三星在代工領(lǐng)域展開一定的競爭。2021年10月,SK海力士宣布將以5760億韓元(4.92億美元)收購晶圓代工廠Key Foundry,這家8英寸晶圓代工廠商主要生產(chǎn)電源管理、顯示驅(qū)動和微控制器(MCU)等芯片。近日,該交易已獲中方批準(zhǔn),預(yù)示著收購已進(jìn)入尾聲,、收購?fù)瓿珊?,SK海力士的晶圓代工產(chǎn)能將提升一倍,并成為僅次于三星的韓國第二大代工廠,很可能躋身全球十大晶圓代工廠商之列。

兩家的競爭還體現(xiàn)在人才方面的爭奪戰(zhàn)中,三星與SK海力士為搶半導(dǎo)體人才,正在上演一場加薪戰(zhàn)。根據(jù)韓國《亞洲日報》6月30日的報導(dǎo),為吸引優(yōu)秀人才,韓國半導(dǎo)體巨頭三星電子和SK海力士透過調(diào)薪展開搶人大戰(zhàn),員工起薪已超過5000萬韓元(約30萬人民幣)。去年3月三星電子將員工起薪由4450萬韓元上調(diào)至4800萬韓元,同年6月,SK海力士將起薪上調(diào)至5050萬韓元。今年4月,三星電子再次將起薪上調(diào)至5150萬韓元,2年間上調(diào)700萬韓元,超越SK海力士,預(yù)期SK海力士將在年中再次調(diào)薪以超過三星電子。除此之外,韓國兩大巨頭在績效獎金發(fā)放上也不甘示弱。

面對重重挑戰(zhàn),分析師稱,三星需要進(jìn)行大規(guī)模的企業(yè)并購,才能突破困境。但是李在镕由于司法部的五年禁令,在2027年前不得重返管理層,群龍無首之下,三星也無法做出重大決策,而且目前也沒有合適的標(biāo)的。在這樣的背景下,三星需要新的增長動力。3nm對于三星來說是至關(guān)重要的一環(huán)。

3nm首家量產(chǎn),三星能否開啟新篇章

6月30日,三星宣布成為全球首家已經(jīng)開始量產(chǎn)3nm制程芯片的廠商。三星表示其初代3nm制程比起5nm 產(chǎn)品功耗降低45%、效能提升16%、節(jié)點面積減少16%;第二代3nm制程更會降低50% 功耗、擁有30% 效能提升,并減少35%節(jié)點面積。

但卻被外媒質(zhì)疑首家客戶是誰?這個問題非常重要,因為芯片工藝的先進(jìn)度是晶圓廠技術(shù)能力的關(guān)鍵指標(biāo),但客戶方能證明廠商的技術(shù)實力,給晶圓廠帶來實際的營收。有專家表示,三星首個量產(chǎn)3nm的象征意義大于實際意義,對臺積電影響不大,畢竟蘋果和英特爾等重大客戶都已經(jīng)選擇了臺積電。

三星并未透露3nm芯片的客戶名單,只是表示這些芯片將用于高性能計算應(yīng)用。有供應(yīng)商和其他消息人士稱,三星這些運算芯片的首批客戶,將包括中國大陸的加密貨幣礦商,但由于近來加密貨幣價值崩跌,這些客戶可能無法長期依賴。這些芯片將在開發(fā)制造技術(shù)的華城園區(qū)制造,而不是在最新建造的平澤廠量產(chǎn),因此也被觀察家懷疑生產(chǎn)規(guī)模不大。

接下來的問題是三星是否有能力保證使用 3nm級芯片的大批量生產(chǎn)并提高良率,這對以后的商業(yè)成功至關(guān)重要。三星還沒有詳細(xì)說明3nm新芯片的產(chǎn)能。此前據(jù)《商業(yè)郵報》的一份報告稱,三星 3nm 工藝節(jié)點的產(chǎn)量仍遠(yuǎn)低于公司的目標(biāo)。雖然三星代工廠的全環(huán)柵極 (GAA) 晶體管架構(gòu)首次推出其 3 nm節(jié)點,使其比臺積電(臺積電將推出其 2 nm節(jié)點的 GAA 架構(gòu))領(lǐng)先,但三星代工廠在其早期 3 nm生產(chǎn)中的良率一直處于10%至 20%的范圍。

不過如果三星在3nm的良率上能達(dá)標(biāo),那么其或?qū)⒅匦芦@得一定的競爭地位。當(dāng)下疫情和缺芯使得各國清楚了供應(yīng)鏈的脆弱性,也希望減少對單一國家半導(dǎo)體生產(chǎn)上的依賴,前段時間美國總統(tǒng)拜登前去參觀了三星生產(chǎn)3nm芯片的工廠。如果三星的3nm良率穩(wěn)定,那么它將有機(jī)會收獲美國一波利潤豐厚的企業(yè)客戶中贏回更多的訂單。

三星在 2017-2020 年期間花費了932億美元用于擴(kuò)大其內(nèi)存和代工部門的半導(dǎo)體產(chǎn)能,超過了英特爾和臺積電的投資。此外,該公司還斥資數(shù)十億美元研究和開發(fā)新的工藝技術(shù)??梢钥闯?,三星在新工藝以及3nm上的投資巨大。早在2019年4月30日,李在镕在位于京畿道華城的工廠宣布,“將在包括晶圓代工在內(nèi)的系統(tǒng)半導(dǎo)體領(lǐng)域拿下第一名。”為此,三星宣布了一項重大計劃,2030年前光是在系統(tǒng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)就要投資133兆韓元(1,050億美元)。該公司去年并表示,將再注資38兆韓元。

三星3nm的勁敵和潛在競爭者

在3nm的競爭中,臺積電是三星的一大勁敵。此前據(jù)SemiWiki的報道,臺積電的3nm技術(shù)就進(jìn)展順利,而且良率良好。

臺積電在日前召開的年度技術(shù)論壇上,宣布3nm將于下半年面世,實際芯片將于2023年初交付給客戶。并談到了將在未來幾年推出的四種 N3 衍生制造工藝(總共五個 3 納米級節(jié)點)——N3E、N3P、N3S 和 N3X。這些 N3衍生工藝旨在為超高性能應(yīng)用提供改進(jìn)的工藝窗口、更高的性能、增加的晶體管密度和增強(qiáng)的電壓。同時,臺積電還推出支援N3的TSMC FINFLEX技術(shù)。這是臺積電的“秘密武器”,極大地增強(qiáng)了他們的設(shè)計靈活性,并允許芯片設(shè)計人員精確優(yōu)化性能、功耗和成本。

該FinFlex技術(shù)將允許芯片設(shè)計人員在一個模塊內(nèi)混合和匹配不同類型的FinFET,以精確定制性能、功耗和面積。對于像 CPU 內(nèi)核這樣的復(fù)雜結(jié)構(gòu),這樣的優(yōu)化提供了很多提高內(nèi)核性能的機(jī)會,同時仍然優(yōu)化了裸片尺寸。

在此需要再說明一點的是,在3nm技術(shù)的演進(jìn)中,三星采用的GAA技術(shù),臺積電則繼續(xù)采用FinFET工藝。臺積電以其相當(dāng)保守的工藝技術(shù)開發(fā)方法以及新工具的使用而聞名,這為其客戶提供了很多可預(yù)測性,這點也可以從使用EUV光刻機(jī)中看出,2018年三星開始部署EUV光刻來生產(chǎn)7nm,而臺積電在2018年并未將 EUV設(shè)備用于其 N7 節(jié)點,僅在原始工藝的問題得到解決或至少確定以及 EUV 工具成熟后,才在 2019 年為其后續(xù)的 N7+ 技術(shù)提供EUV層。

FinFET運用立體的結(jié)構(gòu),增加了電路閘極的接觸面積,進(jìn)而讓電路更加穩(wěn)定,同時也達(dá)成了半導(dǎo)體制程持續(xù)微縮的目標(biāo)。其實,F(xiàn)inFET晶體管走在3nm多多少少已是極限了,再向下將會遇到制程微縮而產(chǎn)生的電流控制漏電等物理極限問題,而臺積電之所以仍選擇其很大部分原因是不用變動太多的生產(chǎn)工具,也能有較具優(yōu)勢的成本結(jié)構(gòu)。特別對于客戶來說,既不用有太多設(shè)計變化還能降低生產(chǎn)成本,可以說是雙贏局面。

而三星所采用的是柵極環(huán)繞型 (Gate-all-around,GAA) 晶體管架構(gòu),相比臺積電的FinFET晶體管,從性能上來看,基于GAA架構(gòu)的晶體管卻可以提供比FinFET更好的靜電特性,能滿足一定的柵極寬度要求。具體可表現(xiàn)為在同樣的工藝下,使用GAA工藝可將芯片尺寸做的更小。但基于GAA的3nm技術(shù)成本肯定是更高的。

現(xiàn)在來看,加上了FinFlex技術(shù),或?qū)⑹沟门_積電的FinFET技術(shù)路線贏面更大。

平面晶體管、FinFET與GAA FET對比示意圖

法人表示,看好臺積電的3納米節(jié)點,將在先進(jìn)制程市場獨霸2-3年,通吃AI和HPC訂單。目前臺積電的3納米客戶方面不僅預(yù)期有蘋果、英特爾率先采用,其他如NVIDIA、高通、AMD與聯(lián)發(fā)科也已排隊預(yù)約產(chǎn)能。大摩分析師Charlie Chan日前發(fā)表報告稱,臺積電在2023年的3nm芯片代工市場上幾乎是壟斷性的,市場份額接近100%。

從工廠方面來看,中國臺灣南科18廠四至六期是臺積電3nm量產(chǎn)基地。6月中旬據(jù)外媒報道,三星正在臺南的生產(chǎn)中心再建4座價值100億美元的工廠,都將用來生產(chǎn)3納米芯片。臺積電CEO魏哲家在今年一季度的財報分析師電話會議上曾透露,在3nm制程的量產(chǎn)上,預(yù)計量產(chǎn)后第一年的投片量,將高于7nm和5nm制程同期。

除了臺積電,英特爾重回先進(jìn)制程的雄心十足。在2022年投資者大會上,英特爾曾表示Intel 4(7nm)預(yù)計在2022年下半年投產(chǎn);Intel 3(第二代7nm)預(yù)計在2023年下半年投產(chǎn);Intel 20A(5nm)將于2024年投產(chǎn);Intel 18A(第二代5nm)預(yù)計在2025年投產(chǎn)。如果英特爾繼續(xù)走上正軌,按照路線圖明年發(fā)布Intel 3,那么他們就將擁有一個在密度和性能上具有競爭力的代工工藝,而且英特爾已經(jīng)開放了其代工事業(yè)。

英特爾的工藝路線圖(圖源:Anandtech)

不過英特爾的3nm工藝似乎還遙遙無期。所以目前在3nm芯片的生產(chǎn)上,英特爾選擇了臺積電。此前基辛格曾親自到臺積電商定此事。然而近期全球PC需求崩跌嚴(yán)重,所以英特爾也不得不修整出貨與營運目標(biāo),或?qū)⒅匦律逃懏a(chǎn)能規(guī)劃。臺積電總裁魏哲家在今年初的法說會上談及了與Intel合作原則,其表示與IDM半導(dǎo)體公司以開放及公平態(tài)度合作,IDM廠亦為臺積電客戶之一,臺積電于資本開支中已做相關(guān)考量,臺積電不會過度依賴單一客戶及單一產(chǎn)品。

但是值得一提的是,英特爾的3nm節(jié)點似乎比臺積還要高。根據(jù)Digitimes去年對臺積電、三星、Intel在相同命名的半導(dǎo)體制程工藝節(jié)點上的晶體管密度問題進(jìn)行的研究報告分析,到了3nm節(jié)點,臺積電的晶體管密度大約是2.9億個/mm²,三星只有1.7億個/mm²,英特爾將達(dá)到5.2億個/mm²。英特爾的晶體管密度比臺積電高出了超過79%,達(dá)到了三星2倍以上。因此就摩爾定律關(guān)注的晶體管密度指標(biāo)來看,在同一制程工藝節(jié)點上,英特爾相比臺積電、三星更新一代的制程工藝具有一定的優(yōu)勢。

結(jié)語

3nm無疑是摩爾定律接近尾聲的情況下,晶圓廠之間(三星)看得見的背水一戰(zhàn)。但是3nm開發(fā)過程之久,所需EUV及其他先進(jìn)設(shè)備之貴,業(yè)界也是有目共睹的,因此3nm芯片晶圓代工報價、晶圓廠何時開始獲利也將看點十足。三星能否在3nm迎來新的爆發(fā)點,前途還未知。

 

本文系作者 半導(dǎo)體行業(yè)觀察 授權(quán)鈦媒體發(fā)表,并經(jīng)鈦媒體編輯,轉(zhuǎn)載請注明出處、作者和本文鏈接
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