消息稱三星2nm工藝良率已突破60%，與臺(tái)積電基本持平
2026.03.24 22:20?
積電基本持平--鈦媒體快報(bào)】鈦媒體App 3月24日消息，據(jù)報(bào)道，三星2納米工藝的良率近期已突破60%，在短短兩個(gè)季度內(nèi)增長(zhǎng)了兩倍多。去年下半年，該工藝良率僅約20%，導(dǎo)致晶圓上的大部分芯片無(wú)法使用。如今良率突破60%，已與臺(tái)積電的良率水平基本持平。據(jù)悉，行業(yè)龍頭臺(tái)積電的2納米工藝良率在60%至70%之間。（廣角觀察）&pic=https://images.tmtpost.com/uploads/images/2023/10/20231026171706975.png)
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鈦媒體App 3月24日消息，據(jù)報(bào)道，三星2納米工藝的良率近期已突破60%，在短短兩個(gè)季度內(nèi)增長(zhǎng)了兩倍多。去年下半年，該工藝良率僅約20%，導(dǎo)致晶圓上的大部分芯片無(wú)法使用。如今良率突破60%，已與臺(tái)積電的良率水平基本持平。據(jù)悉，行業(yè)龍頭臺(tái)積電的2納米工藝良率在60%至70%之間。（廣角觀察）
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